平行光曝光機工作原理是什麼?有什麼用途? - 人人焦點

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曝光機工作原理 在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱爲電子抗蝕劑或光刻膠)進行曝光,受電子束輻照後的光刻膠,其物理化學性質發生 ... 人人焦點 影視 健康 歷史 數碼 遊戲 美食 時尚 旅遊 運動 星座 情感 動漫 科學 寵物 家居 文化 教育 故事 平行光曝光機工作原理是什麼?有什麼用途? 2020-11-25電子發燒友 打開APP平行光曝光機工作原理是什麼?有什麼用途?工程師飛燕發表於2018-06-1704:19:00隨著電子產品高精度成像的需求,對印製電路板的設計與製造的要求也越來越高。

這推動了PCB生產所需的曝光設備的研製。

爲此研發出平行光曝光設備是製作密集細線路的關鍵。

文章介紹了平行曝光機工作原理及圖形轉移技術,跟隨小編來詳細的了解一下吧。

  平行光曝光機的特點這個類型的設備只有一個燈管,曝光台面也是分有上下方兩個鏡子,使用的是光線折射的原理。

當兩個面同時進行曝光的時候,上下燈的曝光是分開的。

上等先進行曝光,一面鏡子將光線反射到台面的上方鏡子,然後再折射到曝光檯面上。

下燈曝光時,光線是直接直射到下方的鏡子裡然後在折射到檯面上,因此說使用品行曝光機進行曝光的時候,上燈的能量會比下燈的能量要更大一些,曝光及級數才會一樣。

  平行光曝光機工作原理1、光源圖1是高壓水銀弧光燈構造圖。

印刷電路板製程中干膜曝光所需的光源大致而言以近紫外光爲主,波長範圍爲:400nm~300nm;紫外光源是以水銀弧光燈爲主。

當電流通過一個內部充滿惰性氣體和金屬蒸氣的玻璃封管時,就會產生弧光。

簡單的原理爲封管內游離電子經電場加速後本身具有足夠的能量,可將被其碰撞的惰性氣體(例如氖)使其發生離子化反應。

碰撞後,帶正電的氖離子往相反電極方向走,再碰到電子時發生互相結合,而成中性。

因其之碰撞以及正負結合的能量,使產生一種激發態的氖原子。

這種激發態的氖原子壽命較長,可再將激發能移給封管內同時存在的金屬蒸氣(例如汞原子),使其也被激發。

此種激發態汞再以放出光能的方式將能量放出,以回到安定狀態。

這就是弧光燈發光的原理。

如下反應式:2、光路圖2是平行光原理示意圖,光源發出來的光,部份經過聚光器,然後再經過介質性的冷光面鏡或雙向鋁鏡,而反射出來;此兩種鏡面也可當作紅外線濾光器雙向鋁鏡,讓光源中的紅外光透過,其中之熱量則被散熱座所吸收。

剩下的冷光成90°折射透過另外一個雙凸透鏡的組合(一般稱爲光線整合器LightIntegrator),此時紅外光被濾走,剩下來幾乎都是很純的紫外光,是一種外觀爲藍色的光,其波長在320nm~405nm之間。

然後再到達另兩個反射表面,一般稱此爲平行光反射鏡,變成平行光線反射出來,到達工作區域上。

  圖形轉移技術1、干膜感光材料介質,由聚酯片基、光敏抗蝕膠膜和聚乙烯保護膜三層構成。

片基是光敏抗蝕劑膠膜的載體,使抗蝕干膜保持良好的尺寸穩定性,還可保護抗蝕膜不被磨損;光敏抗蝕劑膠膜由具有光敏性抗蝕樹脂組成;聚丙烯或聚乙烯薄膜是覆蓋在抗蝕膠層另一面的保護層。

2、底片底片是圖形轉移媒介,如圖3。

3、圖形轉移技術原理紫外光透過圖形轉移媒介(黑片)與感光材料(干膜)發生光化學反應,使高分子內部或高分子之間的化學結構發生變化,從而導致感光性高分子的物性發生變化,其化學活性較差。

未照射的不發生化學反應,活性不變,發生反應部分化學活性較低,利用這一特性,採用溶解或剝離方法形成導電圖形。

4、干膜圖形轉移流程  平行光曝光機的用途平行光曝光機主要是用於光刻膠曝光。

光刻膠也稱爲光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照後特性會發生改變。

光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。

光刻膠有正膠和負膠之分。

正膠經過曝光後,受到光照的部分變得容易溶解,經過顯影后被溶解,只留下未受光照的部分形成圖形而負膠卻恰恰相反,經過曝光後,受到光照的部分會變得不易溶解,經過顯影后,留下光照部分形成圖形。

負膠在光刻工藝上應用最早,其工藝成本低、產量高,但由於它吸收顯影液後會膨脹,導致其解析度(即光刻工藝中所能開誠最小圖形》不如正膠,因此對於亞微米甚至更小尺寸的加工技術,主要使用正膠作爲光刻膠。

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AMOLED需要的核心工藝設備曝光機,有幾個了解這麼多…… 曝光,簡單點說,就是通過光照射光阻,使其感光。

然後通過顯影工藝將曝光完成後的圖形處理,以將圖形清晰的顯現出來的過程。

而整個光刻工藝,則是將圖形從光罩上成象到光阻上的過程。

曝光機的原理談到曝光,那必不可少就要談到曝光機。

目前大部分曝光設備採用的是非接觸式曝光。

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電子束曝光機與普通光學曝光機區別 電子束曝光機是一台加工設備,其加工目的是在電子束感光膠上製備出納米級的結構。

該設備電子的加速電壓達到100KV,掃描速度12MHz,具有10個承片台;因此其具有加工精度高,速度快,自動化程度高等特點,從而具有比較高的工作效率。

加工樣品不需要掩膜版製備,使得圖形能夠靈活多變,非常適用於科研探索。

什麼是光刻機?一台上億的ASML光刻機工作原理分享 光刻機是晶片製造的核心設備之一,按照用途可以分爲好幾種:有用於生產晶片的光刻機;有用於封裝的光刻機;還有用於LED製造領域的投影光刻機。

用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口,本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶片生產的設備。

什麼是光柵尺?帶你了解光柵尺的工作原理 本文與主頁視頻可一起食用,我會簡單的介紹一下什麼是光柵尺以及光柵尺的基本原理。

在說光柵尺之前先給大家說一下什麼是光柵,光柵是由大量等寬等間距的平行狹縫構成的光學器件,一般常用的光柵是在玻璃片上刻出大量平行刻痕製成,刻痕爲不透光部分,兩刻痕之間的光滑部分可以透光,相當於一狹縫。

精製的光柵,在1cm寬度內刻有幾千條乃至上萬條刻痕。

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在機身底部中區有一個旋轉滾刷用來捲起地面較大的碎屑髒汙;底部前方左右兩側裝有兩個相對旋轉的邊刷,用來提高每次清掃地面的有效面積,並將牆邊角與家俱底下的灰塵垃圾掃入吸塵器內。

韓立:電子束曝光機是半導體製造的基礎設備 電子束曝光是由高能量電子束和光刻膠相互作用,使膠由長(短)鏈變成斷(長)鏈,實現曝光,相比於光刻機具有更高的解析度,主要用於製作光刻掩模版、矽片直寫和納米科學技術研究。

電子束曝光主要有可變矩形電子束曝光系統、電子束投影光刻技術、大規模平行電子束成像三種技術。

光刻機的工作原理的原理是什麼?怎麼刻晶片? 光刻機的工作原理在整個晶片製造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術。

光刻也是製造晶片的最關鍵技術,他占晶片製造成本的35%以上。

當晶片完成IC設計後,就要委託晶圓代工廠進行晶片製造封裝。

晶片製造中,晶圓必不可少,從二氧化矽(SiO2)礦石,比如石英砂中用一系列化學和物理冶煉的方法提純出矽棒,然後切割成圓形的單晶矽片,這就是晶圓。

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光刻技術概述及光刻技術的原理 而光刻技術是保證製造承載信息的載體。

在社會上擁有不可替代的作用。

光刻技術的原理 光刻就是把晶片製作所需要的線路與功能區做出來。

利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光後會發生性質變化,從而使光罩上得圖形複印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。

這就是光刻的作用,類似照相機照相。

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光是什麼?幾個世紀以來,我們對光的看法發生了巨大的變化。

關於光的第一個真正的理論來自古希臘人。

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針式印表機之所以在很長的一段時間內能長時間的流行不衰,這與它極低的列印成本和很好的易用性以及單據列印的特殊用途是分不開的。

當然,它很低的列印質量、很大的工作噪聲也是它無法適應高質量、高速度的商用列印需要的根結,所以現在只有在銀行、超市等用於票單列印的很少的地方還可以看見它的蹤跡。

噴墨印表機因其有著良好的列印效果與較低價位的優點因而占領了廣大中低端市場。



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